Current Result Document :
ÇѱÛÁ¦¸ñ(Korean Title) |
XGBoost¸¦ »ç¿ëÇÑ ¹ÝµµÃ¼ ³ë±¤ °øÁ¤ °èÃø °á°ú ¿¹Ãø |
¿µ¹®Á¦¸ñ(English Title) |
Prediction of Semiconductor Exposure Process Measurement Results using XGBoost |
ÀúÀÚ(Author) |
½ÅÁ¤ÀÏ
¹ÚÁö¼ö
¼ÕÁø°ï
Jeong Il Shin
Ji Su Park
Jin Gon Shon
|
¿ø¹®¼ö·Ïó(Citation) |
VOL 28 NO. 01 PP. 0505 ~ 0508 (2021. 05) |
Çѱ۳»¿ë (Korean Abstract) |
¹ÝµµÃ¼ ȸ·ÎÀÇ ¹Ì¼¼È·Î ´ÜÀ§ °øÁ¤ÀÌ Áõ°¡Çϸé TAT(turn-around time) Áõ°¡¿¡ µû¸¥ Á¦Á¶ ºñ¿ëÀÌ ´Ã¾î³´Ù. ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ Áß Æ÷Åä °øÁ¤Àº ¸¶½ºÅ©ÀÇ È¸·Î¸¦ ¿þÀÌÆÛ¿¡ Àü»çÇÏ´Â °øÁ¤À¸·Î Àü»ç¸¦ ´ã´çÇÏ´Â ³ë±¤ÀåºñÀÇ ¼º´É¿¡ ÀÇÇØ È¸·ÎÀÇ Á¤È®¼ºÀÌ °áÁ¤µÈ´Ù. ÀÌ·± Á¤È®¼ºÀ» °ËÁõÇÏ´Â °èÃø°øÁ¤Àº ȸ·ÎÀÇ ¹Ì¼¼È°¡ ÁøÇàµÉ¼ö·Ï Çʿ伺Àº Áõ°¡Çϳª TAT Áõ°¡ÀÇ ÁÖµÈ ¿äÀÎÀ¸·Î ÃÖ±Ù ±â°èÇнÀÀ» »ç¿ëÇÑ ´Ù¾çÇÑ ¿¹Ãø ¸ðÇüµéÀÇ °³¹ß·Î °èÃø °á°ú¸¦ ¿¹ÃøÇÏ´Â ½ÇÇèµéÀÌ ÁøÇàµÇ°í ÀÖ´Ù. º» ³í¹®Àº ³ë±¤Àåºñ ¼¾¼µéÀÇ ÀÌ»ó°ªÀ» °¨ÁöÇÏ¿© ºÐ·ù ÈÄ °èÃø°øÁ¤À» ÁøÇàÇÏ´Â LFDC(Lithography Fault Detection and Classification) ½Ã½ºÅÛÀÇ ¹®Á¦ÀÎ ºÐ·ù ¼º´ÉÀÌ ¶³¾îÁö´Â °ÍÀ» ÇØ°áÇϱâ À§ÇØ XGBoost¸¦ »ç¿ëÇÏ¿© °èÃø°øÁ¤À» ÁøÇàÇÏÁö ¾Ê°í ³ë±¤Àåºñ ¼¾¼ÀÇ ÀÌ»ó°ªÀ» ÇнÀµÈ ÇнÀ±â¸¦ ÅëÇØ ºÐ·ùÇÏ¿© Æ÷Åä °øÁ¤À» ÀçÁøÇàÇϰųª ´ÙÀ½ °øÁ¤À» ÁøÇàÇÏ´Â ¹æ¹ýÀ» ½ÇÇèÇÏ¿´´Ù. ½ÇÇè¿¡¼ »ç¿ëµÈ °èÃø °á°ú ¿¹Ãø ¸ðÇüÀº 89% ÀÇ Á¤È®µµ¸¦ È®º¸ÇÏ¿´°í ¹ÝµµÃ¼ µ¥ÀÌÅÍ Æ¯¼ºÀÎ ½É°¢ÇÑ ºÒ±ÕÇüÀÇ µ¥ÀÌÅÍ¿¡ ´ëÇؼµµ °°Àº Á¤È®µµ¸¦ ¾ò¾ú´Ù. ÀÌ·± °á°ú´Â ³ë±¤Àåºñ ¼¾¼µéÀÇ À̻󰪿¡ ´ëÇØ 89%´Â Á¤»óÀ¸·Î ÆÇ´ÜÇÏ¿´°í Á¤»óÀ¸·Î ÆÇ´ÜÇÑ ¿þÀÌÆÛ¸¦ ½ÇÁ¦ °èÃø ½Ã ¿¹Ãø°ú °°Àº °á°ú¸¦ ¾ò¾ú´Ù. °èÃø °á°ú ¿¹Ãø ¸ðÇüÀ» »ç¿ëÇÏ¸é ½ÇÁ¦ °èÃøÀ» ÁøÇàÇÏÁö ¾Ê°í ³ë±¤Àåºñ ¼¾¼µéÀÇ À̻󰪿¡ ´ëÇÑ ÆÇÁ¤À» ÇÒ ¼ö ÀÖ¾î TAT ´ÜÃàÀ¸·Î Á¦Á¶ ºñ¿ë°¨¼Ò, °èÃø Àåºñ ºÎÇÏ °¨¼Ò ¹× È¿À² Çâ»óÀ» ÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. ÇÏÁö¸¸ º» ³í¹®¿¡¼´Â 90%ÀÇ ¼º´ÉÀ» º¸ÀÌ´Â °èÃø °á°ú ¿¹Ãø ¸ðÇüÀ¸·Î ¿©ÀüÈ÷ 10%¿¡ ´ëÇؼ´Â ½ÇÁ¦ °èÃøÀÌ ÇÊ¿äÇÑ ¹®Á¦¿¡ ´ëÇØ ÃßÈÄ ´õ ¿¬±¸°¡ ÇÊ¿äÇÏ´Ù.
|
¿µ¹®³»¿ë (English Abstract) |
|
Å°¿öµå(Keyword) |
|
ÆÄÀÏ÷ºÎ |
PDF ´Ù¿î·Îµå
|